全譜直讀光譜儀9800L是我公司引進歐洲技術生產,是目前比較良好的國際認為的CCD光譜儀技術, 廣泛應用于冶金、鑄造、機械、汽車制造、航空航天、兵器、金屬加工等領域的生產工藝控制，爐前化驗，中心實驗室成品檢驗。
更新時間：2025-10-12
產品型號：
廠家性質：生產廠家
全譜直讀光譜儀9800L
應用領域
全譜直讀光譜儀9800L是我公司引進歐洲技術生產,是目前比較良好的國際認為的CCD光譜儀技術, 廣泛應用于冶金、鑄造、機械、汽車制造、航空航天、兵器、金屬加工等領域的生產工藝控制，爐前化驗，中心實驗室成品檢驗。9800L體積小、穩定性好、檢測限低、分析速度快、運行成本低、操作維護方便，是控制產品質量的理想選擇。
產品優勢
1、良好的CCD全譜光譜儀制造技術（數字化技術替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術）、通道不受限制 ；
2、引進歐洲技術、同國際光譜儀技術同步，國內能生產真空CCD全譜技術光譜儀的制造商；
3、基體范圍內通道改變、增加不需費用；
4、升級多基體方便，無須變動增加硬件；
5、優良的數據穩定性，同一樣品不同的時間段分析，可獲得良好的數據一致性；
6、體積小、重量輕， 移動安裝方便；
7、高集成度、高可靠性、高穩定性；
8、節電、節材、能耗只是普通光譜儀50%。
主要特點
1、可測定包括痕量碳（C），磷（P）,硫（S）元素,適用于多種金屬基體，如：鐵基，鋁基，銅基，鎳基，鉻基，鈦基，鎂基，鋅基，錫基和鉛基。全譜技術覆蓋了全元素分析范圍，可根據客戶需要選擇通道元素；
2、分析速度快捷，20秒內測完所有通道的元素成分。針對不同的分析材料，通過設置預燃時間及標線，使儀器用較短的時間達到更優的分析效果；
3、光學系統采用真空恒溫光室， 激發時產生的弧焰由透鏡直接導入真空光室，實現光路直通,消除了光路損耗，提高檢出限，測定結果準確，重現性及長期穩定性更佳；
4、特殊的光室結構設計，使真空室容積更小，抽真空速度不到普通光譜儀的一半；
5、自動光路校準，光學系統自動進行譜線掃描，確保接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動識別特定譜線，與原存儲線進行對比，確定漂移位置，找出分析線當前的像素位置進行測定；
6、開放式的電及架設計，可以調整的樣品夾，便于各種形狀和尺寸的樣品分析；
7、工作曲線采用國際標樣，預做工作曲線，可根據需要延伸及擴展范圍，每條曲線由多達幾十塊標樣激發生成，自動扣除千擾；
8、HEPS數字化固態光源，適應各種不同材料 ；
9、固態吸附阱，防止油氣對光室的污染，提高長期運行穩定性；
10、銅火花臺底座，提高散熱性及堅固性能；
11、合理的氬氣氣路設計，使樣品激發時氬氣沖洗時間縮短，為用戶節省氬氣，氬氣消耗不到普通光譜儀的一半；
12、采用鎢材料電及，電及使用壽命更長，并設計了電及自吹掃功能，清潔電及更加容易；
13、高性能DSP及ARM處理器，具有超高速數據采集及控制功能并自動實時監測光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發室等模塊 的運行狀況；
14、儀器與計算機之間采用以太網連接，抗千擾性能好，外部計算機升級與儀器配置無關，使儀器具有更好的適用性；
15、核心器件全部進口，保證了儀器優良的品質。
技術參數
1、光學系統
光學結構：帕邢-龍格結構的全譜真空型光學系統
光室溫度：自動控制恒溫：35℃±0.5℃
波長范圍：160-800nm
光柵焦距：350 mm
光柵刻線：3600 l/mm
光譜線色散率：1.2 nm/mm
探測器：多塊高性能線陣CCD
平均分辨率：10pm/pixel
2、激發臺
氣體：沖氬式
氬氣流量：激發時3-5L/min， 待機時:無須待機流量
電及：鎢材噴射電及技術
吹掃：點擊自吹掃功能
補償：熱變形自補償設計
分析間隙：樣品臺分析間隙：4mm
3、激發光源
類型：HEPS數字化固態光源
頻率：100-1000Hz
放電電流：1-80A
特殊技術：放電參數優化設計
預燃：高能預燃技術
4、數據采集系統
處理器：ARM處理器，高速數據同步采集處理
接口：基于DM9000A的以太數據傳輸
5、電源與環境要求
輸入：220VAC 50Hz
功率：分析時（max）700W，待機狀態40W
工作溫度：10-30℃（該溫度范圍內溫度變化不大于5℃/h）
工作濕度：20-80%
6、尺寸與重量
尺寸：800*450*500 mm
重量：120Kg
